(南大光电)国产光刻胶迎来历史性机遇

近期，专注于电子材料市场研究的TECHCET发布最新统计和预测数据：2021年，半导体制造所需的光刻胶市场规模将同比增长11％，达到19亿美元。

而在全球缺货的大环境下，芯片制造，特别是晶圆代工产能供不应求，相应的产能扩充一直在全球范围内进行当中。
这就给了半导体光刻胶提供了更持久的增长动力。
在接下来的几年，全球半导体光刻胶市场将保持稳定的增长势头

南大光电方面，就在2020年底，该公司自主研发的ArF光刻胶产品成功通过客户认证。
认证评估报告显示，本次认证选择客户50nm闪存产品中的控制栅进行验证，南大光电的ArF光刻胶产品测试各项性能满足工艺规格要求，良率结果达标。
该产品通过认证，成为通过产品验证的第一家国产ArF光刻胶企业。
南大光电强调，ArF光刻胶产品的配方包括成膜树脂、光敏剂、添加剂和溶剂等组分材料。
是否能够将各个组分的功能有效地结合在一起，关系到光刻胶配方的成败，这是调制光刻胶配方的最大挑战和难点，也是一个光刻胶公司技术能力的基本体现。
国际上只有少数几家光刻胶公司可以做到产品级ArF光刻胶配方的调制。